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摘 要:本发明公开了一种抗菌性阴离子交换膜的制备方法,按照以下步骤进行:步骤1:取BPPO溶解于NMP得到均相溶液;步骤2:将硫酸庆大霉素进行纯化得纯净庆大霉素;向步骤1所得的均相溶液中加入纯净庆大霉素进行共混,得到均相铸膜液;步骤3:将步骤2的均相铸膜液进行抽滤,在室温条件下加入三甲胺,充分季铵化反应后,放入真空干燥箱进行脱泡;步骤4:步骤3所得的均相铸膜液倾倒在玻璃模具上,得到流延膜,然后立即放入真空干燥箱常温真空脱气,再真空干燥,再使膜在去离子水中与玻璃模具自然脱离;步骤5:将步骤4得到的膜洗涤得到抗菌性阴离子交换膜。本发明所制得的阴离子交换膜具有较高的离子容量、抗菌性并且有良好的持久性。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202110608898.0 | 专利名称: | 一种抗菌性阴离子交换膜的制备方法 |
申请日: | 2021-06-01 | 申请/专利权人 | 浙江工业大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 浙江省杭州市拱墅区潮王路18号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B01J41/09搜分类 膜的制备方法搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |