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摘 要:本发明涉及去除沉淀的装置,尤其涉及一种实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置。一种实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置,包括:氧化槽、超声波发生器、清洁循环系统;所述氧化槽用于盛放槽液,并作为微弧氧化发生的场所;所述超声波发生器置于所述氧化槽的外底部,用于产生超声波,使槽液沉淀漂浮于液面;所述清洁循环系统用于去除槽液沉淀,所述清洁循环系统包括:进液管、过滤管、滤集盒、波纹管、环形管、冷却桶、循环泵、回流管。本发明设计的装置可实时去除微弧氧化槽液沉淀,提升槽液稳定性,延长槽液寿命,保证膜层性能均一。本发明涉及的装置也适合阳极氧化、化学成膜及电化学成膜。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201710339192.2 | 专利名称: | 实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置 |
申请日: | 2017-05-15 | 申请/专利权人 | 西华大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 四川省成都市金牛区金周路999号西华大学 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C25D11/02搜分类 微 微弧氧化搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |