咨询电话:13280638997
传真:0533-3110363
邮箱:kefu@shizifang.com
摘 要:本发明涉及半导体器件技术领域,具体公开了一种二硫化钼场效应晶体管及其制备方法和应用,该二硫化钼场效应晶体管包括依次设置的衬底层、第一金属层、第一栅介质层与二硫化钼半导体薄膜层,二硫化钼半导体薄膜层两侧分别设有源接触电极与漏接触电极,第二、第三栅介质层以及第二金属层,第二金属层穿过第一栅介质层、第二和第三栅介质层与第一金属层接触。本发明实施例通过设置第一金属层与第二金属层分别作为底栅和顶栅来同时控制二硫化钼沟道,增强对沟道的静电控制能力,有助于进一步缩小尺寸,同时提升器件低功耗性能和高频性能表现,解决了现有二硫化钼场效应晶体管结构在低功耗性能和高频性能方面存在不足的问题。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202010748373.2 | 专利名称: | 一种二硫化钼场效应晶体管及其制备方法和应用 |
申请日: | 2020-07-30 | 申请/专利权人 | 电子科技大学中山学院 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 广东省中山市石岐区学院路1号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L29/78搜分类 二硫化钼 场效应晶体管搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2022/07/01 | 授权 | |
2020/12/08 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): H01L 29/78 专利申请号: 202010748373.2 申请日: 2020.07.30 |
2020/11/20 | 公开 |