发明专利已授权

一种提高石墨烯上表面等离激元耦合强度的结构

📄 申请号：CN201910344842.1 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2019-04-26

申请人

沈阳高瑞知识产权运营有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G02B5_00

IPC 分类号

G02B5_00

技术画像

所属领域

表面等离激元表面等离激元石墨烯光子学微纳光学结构

应用场景

光通信, 光电探测, 光学传感, 生物传感, 集成光子器件

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摘要

本发明涉及一种提高石墨烯上表面等离激元耦合强度的结构，包括第一金属膜、第一发光层、石墨烯层、第二发光层、第二金属膜构成的多层结构；所述第一金属膜的上方设置有第一发光层，所述第一发光层的上方设置有石墨烯层，所述石墨烯层的上方设置有第二发光层，所述第二发光层的上方设置有第二金属膜；该提高石墨烯上表面等离激元耦合强度的结构，不仅结构简单，能够充分发挥石墨烯的光学特性，提高表面等离激元耦合强度的光学结构，而且在所述的光学结构上设置条形的石墨烯，能够使得表面等离激元定向的传输，另外，所设置的非平面石墨烯层能够耦合更多的表面等离激元，大大提高了表面等离激元的耦合度。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20250829

?? 专利权的转移：

20221213

✅ 授权

20210824

?? 实质审查的生效：

20190618

📄 公开

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