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摘 要:本发明公开了一种波数线性色散光学系统的设计方法及成像光谱仪,包括构建光学系统,所述光学系统包括依次设置的光栅、棱镜和物镜,所述光栅与棱镜贴合;定义线性度评价系数RMS;通过调整棱镜顶角以使得线性度评价系数RMS取得最小值;当所述线性度评价系数RMS最小时,所述棱镜顶角为α1;由棱镜顶角为α1时等差波数在像面的位置间隔,获取物镜的畸变和垂轴色差的补偿量;根据物镜的畸变和垂轴色差的补偿量优化物镜,获得优化后的光学系统。其利用物镜像差补偿波数线性,实现在不分离光栅和棱镜的情况下获得更高的波数线性,能量利用率高,适用范围广,成本低。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202011240668.5 | 专利名称: | 波数线性色散光学系统的设计方法及成像光谱仪 |
申请日: | 2020-11-09 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G02B27/00搜分类 光学仪器 智能仪器仪表 光学系统 散光 成像光谱仪搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |