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摘 要:本发明公开了一种常温电沉积-扩渗制备梯度硅钢薄带的方法及专用镀液,以低硅钢薄带作为阴极镀件,在溶有SiCl4、FeCl2和/或其水合物的碳酸丙烯酯体系中,以四丁基氯化铵为支持电解质,在无水无氧环境中,通过脉冲电沉积方法在阴极镀件进行Fe-Si合金层的电沉积制备,然后置于还原气氛炉中,进行热扩渗处理,使Si有效渗入基底表层,制备出梯度高硅钢薄带。本发明采用电沉积方法和热处理工艺对低硅钢薄带进行表面处理,实现普通的低硅钢薄带表层Si的二次添加,制备出梯度高硅钢薄带,制备方法简单高效。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201810703345.1 | 专利名称: | 常温电沉积-扩渗制备梯度硅钢薄带的方法及专用镀液 |
申请日: | 2018-07-02 | 申请/专利权人 | 苏州大学 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省苏州市相城区济学路8号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C25D3/56搜分类 硅 港口搜索 |
公开/公告日: | 2019-10-18 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN108823618B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2019/10/18 | 授权 | |
2018/12/11 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): C25D 3/56 专利申请号: 201810703345.1 申请日: 2018.07.02 |
2018/11/16 | 公开 |