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摘 要:本申请公开了一种实时变参量微纳米光场调制系统和干涉光刻系统,该光场调制系统包括光源、4F光学系统和光波调制光学元器件组,4F光学系统包括沿光路依次设置的第一光学组件和第二光学组件,光波调制光学元器件组设置于第一光学组件和第二光学组件之间,该光波调制光学元器件组通过对子波面分段调制,在系统的后焦面产生图案及结构参数可调的光场分布。本发明通过子元件实现对子波面的分立、实时调控,通过改变子元件组合方式可实现不同微纳米图案的实时输出,通过子元件的位置或子元件间相对位置变化可实现结构参数的连续调制。该系统可灵活集成于各种光刻或显微系统中,实现变参量微纳米结构的实时写入和可调制微纳米结构光检测。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201610004778.9 | 专利名称: | 实时变参量微纳米光场调制系统和干涉光刻系统 |
申请日: | 2016-01-06 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | G02B27/00搜分类 纳米材料 微纳米 干 光刻搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |