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摘 要:本发明涉及一种近红外纳米光敏剂及其制备方法和应用,涉及光敏剂技术领域。本发明所述的近红外纳米光敏剂通过对氟硼二吡咯母核进行共轭延长修饰,使其吸收和发射光谱接近于近红外光区;将多氟烷烃基团和聚乙二醇基团引入上述氟硼二吡咯结构中从而获得两亲性光敏剂;利用多氟烷烃基团间强的氟‑氟作用和聚乙二醇基团的亲水作用,最终构建具有超低CMC值的纳米光敏胶束;利用氟…氟作用诱导氟硼二吡咯发生J‑聚集从而使其最大吸收峰红移至近红外区域,有利于肿瘤深部光治疗。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202210025998.5 | 专利名称: | 一种近红外纳米光敏剂及其制备方法和应用 |
申请日: | 2022-01-11 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C08G65/337搜分类 纳米材料 光敏剂搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |