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摘 要:本发明公开了一种钼酸镁/石墨烯纳米片阵列及其制备方法。将水热法制备出的钼酸镁与氧化石墨烯按一定比例分散在水溶液中,搅拌、超声数小时,产物离心、洗涤、干燥,之后在氩气气氛下煅烧制备出形貌规整的纳米片阵列。产品主要是由垂直交叉的钼酸镁/石墨烯纳米片组成,其横截面直径为100±30nm,厚度约为20nm。该制备方法操作简单,可重复性强,环境友好。制备出的钼酸镁/石墨烯纳米片阵列形貌规整,纯度高,比表面积大,此外,由于石墨烯的片层及柔性特征,也为钼酸镁/石墨烯纳米片阵列在储能,催化等方面的应用提供了便利条件。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201610986194.6 | 专利名称: | 一种钼酸镁/石墨烯纳米片阵列及其制备方法 |
申请日: | 2016-11-09 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C01G39/00搜分类 石墨烯 镁 阵列 纳米搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |