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摘 要:本发明涉及一种非易失性存储器。该存储器为顶栅型晶体管结构或底栅型晶体管结构;存储器包括栅极、绝缘层、电荷存储层、源/漏极及半导体层;其中,电荷存储层中离散分布有半导体核壳纳米晶结构,该半导体核壳纳米晶结构与该半导体层直接接触,电荷存储层设置为依据施加至所述栅极的电压极性不同实现电子和/或空穴的存储。本申请由于电荷存储层中离散分布有半导体核壳纳米晶结构,同时该半导体核壳纳米晶结构与半导体层直接接触,使得本申请的电荷存储层在俘获电荷时,电荷不需再经过一层绝缘层,即可快速且无损的到达电荷存储层。经验证,本申请的存储器件具有更快的擦写速度,信息擦写所用时间为≤50ns;具有更好的耐擦写性,耐擦写次数≥105次。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202010078655.6 | 专利名称: | 非易失性存储器 |
申请日: | 2020-02-03 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H01L29/788搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2021/08/06 | 授权 | |
2020/06/30 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): H01L 29/788 专利申请号: 202010078655.6 申请日: 2020.02.03 |
2020/06/05 | 公开 |