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摘 要:本发明公开了一种主动光场深度成像方法及系统,用于对待测物体进行成像,解决了现有技术中外界因素对物体表面反射光场的辐射强度造成干扰而降低光场深度计算的鲁棒性和精度的问题,其包括:通过光场成像装置记录待测物体反射的附带相位编码信息的光场;从记录的所述光场中解调出所述相位编码信息;以及,以所述相位编码信息作为匹配特征,通过记录光场深度线索计算出最优深度图;由于相位编码信息不易被外界因素干扰,故通过采用光场的相位编码信息为光场的匹配特征,提高了光场深度计算的鲁棒性及精度。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201810883849.6 | 专利名称: | 一种主动光场深度成像方法及系统 |
申请日: | 2018-08-06 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | H04N5/232搜分类 主动搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2020/06/05 | 授权 | |
2019/01/04 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): H04N 5/232 专利申请号: 201810883849.6 申请日: 2018.08.06 |
2018/12/11 | 公开 |