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摘 要:本发明涉及一种可调激励频率与占空比的脉冲气体射流发生装置,属于气体射流技术领域。包括旋转机构、发生腔机构和供气机构;旋转机构包括电机、旋转盘,旋转盘的圆周上均布设有四个叶片;发生腔机构包括缸体,缸体的同一圆周上均布设有四个进气口;旋转盘位于缸体内;供气机构包括压力储气罐。工作时,高压气流由进气口进入缸体,当叶片没有遮挡进气口,高压气体从进气口进气的同时从喷嘴喷出,缸体内工作压强不变;当叶片从开始遮挡到完全堵住进气口过程中,高压气体进入缸体受阻,小于工作压强的高压气体由喷嘴喷出;实际操作中通过控制电机旋转转速实现脉冲射流激励频率的调节,通过叶片圆弧面圆心角度的变化实现激励占空比的改变。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202010318954.2 | 专利名称: | 一种可调激励频率与占空比的脉冲气体射流发生装置 |
申请日: | 2020-04-21 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | B05B1/00搜分类 其他搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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日期 | 法律信息 | 备注 |