发明专利已授权

一种X射线衍射光学聚焦元件的制造方法

📄 申请号：CN201910234877.X 📄 发布日：2026/08/25

著录项目信息

申请日

2019-03-26

公开号

CN109903877B

公开日

2020-09-18

申请人

王飞

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G21K1_06

IPC 分类号

G21K1_06

技术画像

所属领域

其他分类其他

应用场景

X射线衍射分析, 同步辐射装置, 材料结构表征, 半导体晶圆检测, 医学影像设备

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摘要

本发明公开了一种制备具有高的衍射效率和成像分辨率的X射线衍射光学聚焦元件的制造方法，使用了原子层沉积与聚焦离子束相结合的技术，选用金属钨丝作为X射线衍射光学聚焦元件的中心衬底细丝起到阻挡零级光的作用，并且在原子沉积前使用高能量离子注入机将金属钨细丝进行表面改性增强了与原子沉积薄膜的结合牢固度，给出了原子沉积的优化参数，可以获得较高的沉积速率和可靠的薄膜厚度可控性，从而得到的光学聚焦元件具有高的衍射效率和成像分辨率。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20200918

✅ 授权

20190712

?? 实质审查的生效：

20190618

📄 公开

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📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：3 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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