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摘 要:一种高纯度低温相方石英的合成方法,将非晶氧化硅用1%~5%氟化铵溶液制成固含量40%~50%的悬浮液,悬浮液用25%氨水调节pH值为7~8,封入高压反应釜,升高釜内温度80℃~200℃,釜内压力1~2.5MPa,并恒温恒压维持4h~24h;晶化后的氧化硅悬浮液冷却过滤,含氟化铵的滤液用于步骤1)制浆循环使用,滤饼用电导率<1.0μs/cm的高纯水反复洗涤3~6次,去除杂质离子;洗净后的预晶化滤饼于真空度‑1MPa~‑2MPa,105℃真空条件下干燥3~6h,得到预晶化氧化硅粉料;氧化硅粉料装入高温马弗炉以2‑5℃的升温速率升高至900℃~1200℃,保温5h~7h,自然冷却即得高纯方石英微粉。本发明所述的方石英的晶体结构为四方相,无其他晶相混杂,纯度高达99.90%~99.99%。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201811056653.6 | 专利名称: | 一种高纯度低温相方石英的合成方法 |
申请日: | 2018-09-11 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 发明 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C01B33/18搜分类 纳米材料搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 面议 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
2019/07/26 | 授权 | |
2019/02/19 | 实质审查的生效 | IPC(主分类): C01B 33/18 专利申请号: 201811056653.6 申请日: 2018.09.11 |