发明专利 已授权

一种表面含有反应性基团的二硫化钼纳米片的制备方法

📄 申请号:CN201410059743.6 📄 发布日:2026/11/10

著录项目信息

申请日
2014-02-21
公开号
CN103833081B
公开日
2016-04-06
申请人
桂林理工大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

润滑材料, 催化材料, 储能材料, 复合材料, 传感器

摘要

本发明公开了一种表面含有反应性基团的二硫化钼纳米片的制备方法。将1重量份的二硫化钼、2~5重量份的正丁基锂和10~20重量份的正己烷加入到水热反应釜中,在50~150℃下加热0.5~12小时,冷却至室温,经离心分离和正己烷洗涤5次,在50℃干燥12小时,制得锂离子插层的二硫化钼粉末,将1重量份锂离子插层的二硫化钼粉末、0.05~10重量份的带有反应性基团的巯基试剂、100~1000重量份的水加入烧杯中在50~1000瓦下超声1分钟~5小时,即制得表面含有反应性基团的二硫化钼纳米片。本发明方法原料易得、反应温和、操作简单以及环境污染小;所制备的纳米片可以进一步功能化,具有有很好的应用前景。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (C01G39_06)

C01G39_00 C01G39_02 C01G39_06 覆盖3个领域
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