发明专利 已授权

一种基于激光刻蚀石墨烯薄膜堆叠的光子晶体及加工方法

📄 申请号:CN202010781050.3 📄 发布日:2026/10/09

著录项目信息

申请日
2020-08-06
公开号
CN111880261B
公开日
2022-05-10
申请人
温州大学平阳智能制造研究院
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光通信器件, 光学传感器, 集成光子器件, 显示技术, 激光器

摘要

本发明提供了一种基于激光刻蚀石墨烯薄膜堆叠的光子晶体,包括若干个堆叠在一起的双层晶体结构,双层晶体结构包括玻璃基片和石墨烯薄膜,石墨烯薄膜上与环形玻璃基片中空部分对应的区域设置有周期性微结构图形,使得该双层晶体结构形成了一石墨烯薄膜层和一空气层,改变玻璃基片的厚度即可调节空气层的厚度;石墨烯薄膜上的周期性微结构图形采用激光刻蚀方法根据设计图形制作。本发明还同时提供了一种基于激光刻蚀石墨烯薄膜堆叠的光子晶体的加工方法。本发明能够快速制备光子晶体,工艺简单易于实现,设计的微周期结构的尺寸、刻蚀图形等参数均能快速调节,最终实现对不同频率的光在光子晶体中传播的控制,具有极好的设计灵活性和参数可调性。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图2
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