发明专利已授权

一种超构表面耦合元件的制作方法

Name: 一种超构表面耦合元件的制作方法
Brand: 深圳珑璟光电科技有限公司
SKU: 2020112869140
Availability: InStock

📄 申请号：CN202011286914.0 📄 发布日：2026/10/04

著录项目信息

申请日

2020-11-17

公开号

CN112394449B

公开日

2023-01-31

申请人

深圳珑璟光电科技有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G02B6_136

IPC 分类号

G02B6_136 , G02B6_13 , G02B6_122 ,

技术画像

所属领域

超构表面超构表面微纳加工光通信器件

应用场景

光通信, 光互连, 集成光子学, 数据中心, 光学传感

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摘要

本发明实施例涉及光学技术领域，特别涉及一种超构表面耦合元件的制作方法。本发明实施例中提供了一种超构表面耦合元件的制作方法，包括：将所需超构表面耦合元件的相位分布匹配预设结构数据库，获得目标纳米结构单元，根据目标纳米结构单元获得超构表面耦合元件的加工版图，其中，预设结构数据库包括至少两个纳米结构单元和其对应的相位响应分布图；提供一衬底，在衬底上镀一层金属或电介质材料的薄膜；在薄膜上涂布一层光刻胶；根据加工版图，进行光刻、刻蚀和去胶，得到超构表面耦合元件的模板；将模板压印至波导基底，得到超构表面耦合元件。通过本发明制作的超构表面耦合元件能够应用于光波导中，不仅能消色差，且加工难度低。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN112394449B

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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