发明专利 已授权

一种光栅偏振片及其优化方法和制备方法

📄 申请号:CN202411964493.0 📄 发布日:2026/09/20

著录项目信息

申请日
2024-12-30
公开号
CN119596437B
公开日
2025-11-18
申请人
南方海洋科学与工程广东省实验室(珠海), 中山大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

所属领域

应用场景

摘要

本发明公开了一种光栅偏振片及其优化方法和制备方法,光栅偏振片依次包括基底层、光刻胶层、金属膜层、第一介质膜层和第二介质膜层,所述第一介质膜层的折射率大于或等于所述光刻胶层的折射率,所述第二介质膜层的折射率大于所述基底层的折射率,所述金属膜层、所述第一介质膜层和所述第二介质膜层形成多层光栅结构。本发明实施例能够提高消光比和透光效率,可广泛应用于光器件技术领域。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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