实用新型 已授权

一种晶圆加工用切面抛光装置

📄 申请号:CN202421257520.6 📄 发布日:2026/09/08

著录项目信息

申请日
2024-06-04
公开号
CN222520927U
公开日
2025-02-25
申请人
陕西晶奕芯原科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 晶圆加工, 芯片制造, 集成电路制造, 硅片表面处理

摘要

本实用新型公开了一种晶圆加工用切面抛光装置,包括底座,所述底座上设有支撑架,还包括在支撑上设有的支撑打磨机构和翻转夹持机构;所述翻转夹持机构包括支撑轴和气缸一,所述支撑轴转动设于支撑架的两侧侧壁上,其中一组所述支撑轴贯穿支撑架的侧壁且连接有翻转组件,两组所述支撑轴之间设有翻转架,所述气缸一固定连接于翻转架的两侧侧壁上,所述气缸一的输出端设有夹块。本实用新型属于晶圆加工技术领域,具体是指一种晶圆加工用切面抛光装置。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (B24B29_02)

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:7 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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