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专利详情
实用新型
已授权
一种晶圆加工用切面抛光装置
📄 申请号:CN202421257520.6
📄 发布日:2026/09/08
著录项目信息
申请日
2024-06-04
公开号
CN222520927U
公开日
2025-02-25
申请人
陕西晶奕芯原科技有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
B24B29_02
IPC 分类号
B24B29_02
,
B24B41_06
,
B24B47_12
,
技术画像
所属领域
半导体制造设备
半导体制造设备
晶圆加工
抛光设备
应用场景
半导体制造, 晶圆加工, 芯片制造, 集成电路制造, 硅片表面处理
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摘要
本实用新型公开了一种晶圆加工用切面抛光装置,包括底座,所述底座上设有支撑架,还包括在支撑上设有的支撑打磨机构和翻转夹持机构;所述翻转夹持机构包括支撑轴和气缸一,所述支撑轴转动设于支撑架的两侧侧壁上,其中一组所述支撑轴贯穿支撑架的侧壁且连接有翻转组件,两组所述支撑轴之间设有翻转架,所述气缸一固定连接于翻转架的两侧侧壁上,所述气缸一的输出端设有夹块。本实用新型属于晶圆加工技术领域,具体是指一种晶圆加工用切面抛光装置。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
当前第 / 件
一种钕铁硼磁性材料钻孔装置
同领域国内专利 · IPC: (B24B29_02)
B24B29_00
B24B29_02
B24B29_04
B24B29_06
B24B29_08
覆盖
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📌 交易状态:
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