发明专利 已授权

一种Co掺杂MoS2阵列原位电极的CVD制备方法

📄 申请号:CN201810196376.2 📄 发布日:2026/08/10

著录项目信息

申请日
2018-03-09
公开号
CN108385132B
公开日
2020-06-23
申请人
三峡大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

电解水制氢;超级电容器;锂离子电池;传感器

摘要

本发明提供一种Co掺杂MoS2阵列原位电极的CVD制备方法,具体制备方法为:钴盐和氯化钼溶于挥发非水溶剂中,获得Co‑Mo前躯液;上述前躯液涂布到基底上,干燥后在Ar+S气氛中或N2+S气氛中,CVD硫化。硫化反应温度为600~800℃,反应时间为10 min~2 h。本发明的技术方案可用于电解水制氢和染料敏化太阳能电池,对于原位电极的批量生产有重大意义。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

……

……

图1
图2
图3

法律状态时间线

20200623
✅ 授权
20180904
?? 实质审查的生效 :
20180810
📄 公开

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