发明专利 已授权

基于二氟化硼配位的扩环卟啉配合物的近红外发光材料

📄 申请号:CN202010601204.6 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2020-06-28
公开号
CN111635423B
公开日
2023-03-31
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

生物医学成像, 光电器件, 荧光传感, 防伪技术, 光动力治疗

摘要

本发明提供了一种基于二氟化硼配位的苯并扩环卟啉的近红外发光材料,所述苯并扩环卟啉的二氟化硼配合物中,苯环取代吡咯环,极大地提高苯并扩环卟啉大环分子的稳定性;本发明的苯并扩环卟啉二氟化硼配合物近红外发光材料发射波长处于红光范围内,可以强烈发光,是很好的红光发光材料;相比于其它的苯环取代的卟啉,本发明中的分子明显发生了较大的红移,使其广泛应用于光动力研究、核磁成像造影剂等。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (C07F5_02)

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