发明专利 已授权

一种凹面精密抛光装置

📄 申请号:CN201810490577.3 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2018-05-21
公开号
CN108772764B
公开日
2024-06-18
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

光学元件加工, 精密模具制造, 航天光学器件加工, 精密机械加工, 医疗器械制造

摘要

本发明公开了一种凹面精密抛光装置,包括抛光槽、正电极、工件托板、工件、气囊液态金属抛光机、中心轴、负电极、连接件、法线轴、电机、气泵、喷头、液态金属输送管和液态金属回收管,所述工件托板安装在抛光槽内,工件安装在工件托板上;正电极安装在工件托板上远离气囊液态金属抛光机的一侧;中心轴的一端连接气囊液态金属抛光机,气囊液态金属抛光机和中心轴设置有负电极中心轴的另一端通过连接件连接法线轴;法线轴后端连接驱动法线轴转动的电机;本发明采用液态金属抛光液进行抛光,液态金属抛光液中的金属离子在电场的作用下会吸附在气囊液态金属抛光机气囊和工件的接触表面上,能够直接通过金属离子对抛光区域进行抛光,抛光精度更高。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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