发明专利已授权

利用高频交变磁场控制液态金属研抛盘的抛光方法及其抛光装置

📄 申请号：CN202411787632.7 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2024-12-06

公开号

CN119328658B

公开日

2025-10-10

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24B29_02

IPC 分类号

B24B29_02 , B24B1_00 , B24B53_00 , B24B55_02 ,

技术画像

所属领域

磁场控制精密抛光技术磁场辅助加工液态金属应用磁场控制

应用场景

精密加工, 半导体制造, 光学元件加工, 模具制造, 航空航天零件加工

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摘要

本发明属于液态金属抛光领域，公开了一种利用高频交变磁场控制液态金属研抛盘的抛光方法及其抛光装置，包括：将抛光过程按顺序划分为四个阶段，分别为粗抛阶段、中抛阶段、优化阶段、精抛阶段。当液态金属研抛盘加工时间长后表面磨粒会被钝化，采用本发明使得磨粒翻转会提高抛光效率。通过外加高频交变磁场的控制手段可以使得磨粒在与被加工件接触的区域分布更加均匀，可以提高抛光质量。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种隔膜法原位电催化熔盐电解合成硅纳米纤维的系统

当前第 / 件

一种异喹啉-1,3(2H,4H)-二酮衍生物的合成方法

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