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本发明属于液态金属抛光领域，公开了一种利用高频交变磁场控制液态金属研抛盘的抛光方法及其抛光装置，包括：将抛光过程按顺序划分为四个阶段，分别为粗抛阶段、中抛阶段、优化阶段、精抛阶段。当液态金属研抛盘加工时间长后表面磨粒会被钝化，采用本发明使得磨粒翻转会提高抛光效率。通过外加高频交变磁场的控制手段可以使得磨粒在与被加工件接触的区域分布更加均匀，可以提高抛光质量。

一种通过磁场控制α‑Ga2O3掺杂浓度的薄膜沉积系统及方法，薄膜化学式为Ga(2‑x)R为xRO33+，掺0.杂02G≤a3x+≤位0的.2原0，子x百分含量，R为Fe、Co、Ni中的一种；该系统包括电磁铁、液位控制装置、反应腔、雾化装置、尾气处理装置，电磁铁固定在反应腔右端，液位控制装置与雾化装置相连，反应腔内放置有衬底，反应腔一端与雾化装置连通、另一端与尾气处理装置连通；雾化装置内盛放有前驱体溶液，雾化装置顶端通过载气控制系统与载气瓶相连。本发明通过加装电磁铁，使掺杂的磁性粒子吸附至反应腔体右端，通过控制电磁铁功率来控制沉积在衬底上的磁性离子浓度，实现实时控制薄膜中的掺杂浓度。

本发明公开了一种可调的外加轴向磁场实验装置及其使用方法，包括稳流装置、磁场发生装置、测量装置。所述稳流装置包括管路、恒压稳流箱、储液箱、中转箱，管路设隔热层；所述磁场发生装置包括金属线圈和控制电路；所述测量装置包括流量计和在线黏度计。所述金属线圈紧密缠绕在管路的外部，在线圈两端设有固定卡箍，起固定和调整线圈匝数的作用，同时线圈两端留有导线接口，接口与控制电路相连。所述恒压稳流箱中的液体稳定流经管路时，基于控制电路能够调整管内轴向磁场的大小和方向，通过观察记录流量计和黏度计的变化，可探究管路内液体的流动性与轴向磁场变化的规律。