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发明专利
已授权
一种阵列流变抛光各向异性材料的装置及方法
📄 申请号:CN202610407725.5
📄 发布日:2026/08/04
著录项目信息
申请日
2026-03-31
公开号
CN121928451B
公开日
2026-06-09
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
B24B29_02
IPC 分类号
B24B29_02
,
B24B57_02
,
B24B57_00
,
B24B41_06
,
B24B41_00
,
B24B1_00
,
技术画像
所属领域
精密抛光技术
精密抛光技术
流变加工技术
表面光整加工
应用场景
精密零部件制造, 光学元件加工, 半导体晶圆抛光, 航空航天零部件表面处理, 模具抛光
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摘要
本发明公开了一种阵列流变抛光各向异性材料的装置及方法,依据工件属性实现特定晶向的高效单向抛光,彻底解决传统工艺方向杂乱、效率低下和去除不可控的难题。本发明装置包括安装框架,安装框架中部设置抛光池,抛光池内设置工件夹具模块,用以固定晶圆工件并进行90度的回转定位;工件夹具模块上配合设有抛光工具模块,抛光工具模块通过移动模块活动设置于安装框架内,抛光工具模块在晶圆工件上方往复运动,用以对晶圆工件的表面保持单一方向的非接触式剪切增稠抛光;以及抛光池与设置于安装框架内的蠕动泵和搅拌器构成抛光液循环机构,用以配制、搅拌均匀并向抛光工具模块输送剪切增稠抛光液,同时回收流出的抛光液形成闭环循环。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
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当前第 / 件
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