发明专利已授权

一种具有梯度分布研磨盘去除函数的计算方法

Name: 一种具有梯度分布研磨盘去除函数的计算方法
Brand: 浙江工业大学
SKU: 2017100106353
Availability: InStock

📄 申请号：CN201710010635.3 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2017-01-06

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24D7_14

IPC 分类号

B24D7_14 , B24D18_00 , B24B37_11 ,

技术画像

所属领域

研磨加工研磨加工去除函数计算表面处理工艺

应用场景

半导体制造, 光学元件加工, 精密机械加工, 化学机械抛光, 工业自动化

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摘要

本发明公开了一种具有梯度分布研磨盘去除函数的计算方法，包括如下步骤：1)假设加工工件在研抛盘上任意位置上的去除量、确定加工工件与研抛盘在任意位置的相对速度和接触压力；2)确定研抛盘的弹性模量的梯度分布函数，根据研抛盘的粘磨层制备材料的组成成分，确定滞留时间函数，并计算Preston函数参数KP，3)根据Preston方程dH＝KP×Pi×Vi×dt得到所要加工材料在研抛盘上任意位置的去除量H(r，z)计算公式。本发明用于加工的研抛盘可以同时完成研磨和抛光工序，研抛盘的径向和轴向都具有弹性模量的梯度分布，可以实现工件的按需去除；用于研抛盘的去除函数的预测模型可以最大程度的利用研抛盘的梯度分布的特点，提高加工效率和加工质量。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号：

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20190222

✅ 授权

20170912

?? 实质审查的生效：

20170818

📄 公开

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：68 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

资金托管权属尽调包过户

🏢 淄博智来知识产权服务有限公司

✓ 企业认证✓ 手机绑定历史成交 2657件好评率 98.5%

📊 出价记录 (3条)

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