发明专利 已授权

一种基于光流变抛光液的抛光装置和方法

📄 申请号:CN202411498019.3 📄 发布日:2026/08/04

著录项目信息

申请日
2024-10-25
公开号
CN119347623B
公开日
2025-09-09
申请人
浙江工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号

技术画像

应用场景

精密制造, 光学元件加工, 半导体制造, 模具抛光, 航空航天零部件加工

摘要

本发明公开了一种基于光流变抛光液的抛光装置和方法,光流变抛光液从恒温水浴装置经分流管、进给管道、喷出头流入抛光池,在高黏度转子泵的作用下进入主流道,回流至恒温水浴装置中;控制端根据液位检测器反馈控制高黏度转子泵,使抛光池内液面高度恒定;控制端控制电控阀门开合使黏度检测仪定量检测抛光液黏度,完成后汇入主流道;控制端接收黏度检测仪、温度检测器、动态扭矩传感器检测的数据,对恒温水浴装置的加热温度、紫外灯一的强度、半导体降温片的制冷或产热、紫外灯二和白光灯的强度、紫外激光发射头发射激光的强度进行控制。本发明实现了对抛光区域光流变抛光液黏度的原位、实时、精确的控制。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:18 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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