发明专利已授权

一种紫外光响应自组装协同介电泳抛光方法和装置

📄 申请号：CN202111561452.3 📄 发布日：2026/08/04

著录项目信息

申请日

2021-12-20

公开号

CN114406890B

公开日

2023-04-07

申请人

浙江工业大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24B31_10

IPC 分类号

B24B31_10 , B24B31_12 , B24B57_02 ,

技术画像

所属领域

超精密加工超精密加工介电泳抛光表面工程

应用场景

半导体晶圆抛光, 光学元件加工, 精密零部件制造, 微纳制造, 表面处理

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摘要

本发明公开了一种紫外光响应自组装协同介电泳抛光方法和装置，包括以下步骤：工具通过三自由度移动导轨平台可实现XYZ三轴的平动，以及电机驱动喷头的两个方向的摆动；通过可调光控装置对抛光液进行两级黏度变换，从而可以对抛光液的初始粘度、紫外线自组装基团对抛光磨粒的把持力进行大范围调控，获得恰当大小射流粘度及较大的磨粒把持力。本发明通过光源发出的不同波长的光改变抛光体的初始黏度，可以有效提高工件抛光的材料去除率、提高表面质量、保证高质量面型精度、降低表面粗糙度，实现对于复杂曲面的确定性可控抛光。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种基于非厄米超表面的非互易传输器件

当前第 / 件

一种噻吩基碳氮共轭聚合物及其制备方法和应用

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：14 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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