发明专利已授权

实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置

📄 申请号：CN201710339192.2 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2017-05-15

申请人

西华大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C25D11_02

IPC 分类号

C25D11_02 , C25D21_06 ,

技术画像

所属领域

微弧氧化微弧氧化表面处理沉淀分离

应用场景

金属表面处理, 工业水处理, 环保设备, 电镀液净化, 氧化槽维护

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摘要

本发明涉及去除沉淀的装置，尤其涉及一种实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置。一种实时去除微弧氧化槽液沉淀的装置，包括：氧化槽、超声波发生器、清洁循环系统；所述氧化槽用于盛放槽液，并作为微弧氧化发生的场所；所述超声波发生器置于所述氧化槽的外底部，用于产生超声波，使槽液沉淀漂浮于液面；所述清洁循环系统用于去除槽液沉淀，所述清洁循环系统包括：进液管、过滤管、滤集盒、波纹管、环形管、冷却桶、循环泵、回流管。本发明设计的装置可实时去除微弧氧化槽液沉淀，提升槽液稳定性，延长槽液寿命，保证膜层性能均一。本发明涉及的装置也适合阳极氧化、化学成膜及电化学成膜。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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