发明专利已授权

一种分子印迹荧光聚合物的制备方法

📄 申请号：CN201910541971.X 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2019-06-21

公开号

CN110437451B

公开日

2023-07-21

申请人

临沂大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C08G77_26

IPC 分类号

C08G77_26 , C08J9_28 , B01J20_286 , G01N21_64 , C08L83_08 ,

技术画像

所属领域

功能高分子功能高分子分子印迹材料荧光材料

应用场景

化学传感, 生物检测, 环境监测, 药物分析, 食品安全检测

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摘要

本发明公开了一种分子印迹荧光聚合物的制备方法，包括采用共溶剂法制备具有多级介孔硅结构双酚A(BPA)印迹聚合物，水热法制备巯基丙酸修饰的表面带有羧基的CdTe量子点和在EDC的作用下，利用羧基和氨基的缩合反应将所述CdTe量子点键和到多级介孔硅结构双酚A(BPA)印迹聚合物内部等步骤。这种方法中，量子点不用经历碱性条件的下的聚合过程和长时间的酸性条件下模板洗脱过程，其光谱性能和荧光强度在分子印迹聚合物中得到完好的保存，从而使得检测灵敏度大大提升。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20230721

✅ 授权

20220708

?? 实质审查的生效：

20191112

📄 公开

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