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本发明公开了一种芍药苷分子印迹聚合物及其制备与应用，所述聚合物按如下方法制备：取硅胶，分散在无水乙醇中，然后加入交联剂，功能单体和苯基三甲氧基硅烷，室温振荡30min后，加入芍药苷乙醇溶液，二次蒸馏水，浓HCl，室温下反应4h，过滤，滤饼先用无水乙醇洗涤，干燥，然后用体积比9:1的甲醇－乙酸洗涤至洗涤液在230nm处无紫外吸收，再用甲醇洗涤除去残留的乙酸，最后干燥至恒重，即得到芍药苷分子印迹聚合物；本发明采用溶胶－凝胶法制备具有双功能单体的芍药苷分子印迹聚合物，能很好地从芍药花提取液中富集芍药苷，富集率最高可达90％，并且能够去除芍药花提取液中的其他杂质。

本发明公开了一种分子印迹荧光聚合物的制备方法，包括采用共溶剂法制备具有多级介孔硅结构双酚A(BPA)印迹聚合物，水热法制备巯基丙酸修饰的表面带有羧基的CdTe量子点和在EDC的作用下，利用羧基和氨基的缩合反应将所述CdTe量子点键和到多级介孔硅结构双酚A(BPA)印迹聚合物内部等步骤。这种方法中，量子点不用经历碱性条件的下的聚合过程和长时间的酸性条件下模板洗脱过程，其光谱性能和荧光强度在分子印迹聚合物中得到完好的保存，从而使得检测灵敏度大大提升。

本发明公开了一种八元环硅氧烷基共轭微孔聚合物。本发明还公开了上述八元环硅氧烷基共轭微孔聚合物的制备方法，包括如下步骤：取2,4,6,8‑四甲基‑2,4,6,8‑四苯基四硅氧烷、三聚氯氰，在路易斯酸催化剂存在下进行傅‑克芳基化反应，得到八元环硅氧烷基共轭微孔聚合物。本发明还公开了上述八元环硅氧烷基共轭微孔聚合物作为荧光传感材料的应用。本发明扩大现有共轭微孔聚合物的品种，本发明所合成的八元环硅氧烷基共轭微孔聚合物具有良好的溶剂耐受性和热稳定性，在其他物质存在的情况下，能够选择性地荧光传感2,4‑二硝基苯酚；检测方法操作简便、信号直观、灵敏度高、选择性好，可实时原位检测。

本发明公开的一种双端及侧链改性氨基硅油的合成及应用，其结构式如式Ⅰ所示：（Ⅰ）其中，X为4‑200的整数，Y为1‑20的整数，R代表、、、中的一种，该双端及侧链改性氨基硅油及其所制备的护发素对毛发受损、拱起、粗糙有明显得修复作用。

本发明公开一种环氧基邻苯二甲腈/聚硅氧烷共聚树脂的制备方法,涉及有机合成技术领域；将甲基或苯基烷氧基硅烷与氨基烷氧基硅烷水解缩合，获得聚硅氧烷，在反应体系中加入环氧基邻苯二甲腈，进行反应，获得环氧基邻苯二甲腈/聚硅氧烷共聚树脂，制备方法过程简单、操作方便、工艺可控、条件温和、重复性好、成本低廉，便于推广使用，制得环氧基邻苯二甲腈/聚硅氧烷共聚树脂材料室温下具有流动性，成型加工温度低，完全固化后具有良好的耐高温性能、热稳定性和热氧稳定性，在耐高温涂层、航空航天等领域具有广泛的应用前景。