发明专利 已授权

一种对1550nm波段手性光存在选择性透过差异的空间扭转三维纳米结构及其制备方法

📄 申请号:CN202010835729.6 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2020-08-19
公开号
CN112068230B
公开日
2022-03-22
申请人
杭州电子科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光通信, 偏振光学器件, 手性光学检测, 光学滤波, 量子信息处理

摘要

本发明公开了一种对1550 nm波段手性光存在选择性透过差异的空间扭转三维纳米结构及其制备方法,涉及微纳加工技术领域,所述三维纳米结构为圆形,从下至上依次包括堆叠的金属纳米结构层、绝缘层和金属纳米结构层,所述金属纳米结构层为对称设置的纳米半圆阵列,所述纳米半圆阵列之间设有间隙,所述上下金属纳米结构层间隙之间的夹角为60°;本发明空间扭转三维纳米结构在1550 nm波段这一重要的光通讯波段实现了手性光的差异性响应,对手性光的的透过率差异大,且通过调节绝缘层折射率可以实现差异性响应波段的调节。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (G02B5_00)

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:19 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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