发明专利已授权

一种制备周期减半的亚微米光栅的方法

📄 申请号：CN202110122787.9 📄 发布日：2026/07/23

著录项目信息

申请日

2021-01-29

公开号

CN112782795B

公开日

2022-06-07

申请人

鲁东大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

G02B5_18

IPC 分类号

G02B5_18

技术画像

所属领域

微纳加工微纳加工光学器件制造光栅制备

应用场景

光通信, 光谱分析, 光栅传感, 精密测量, 半导体光学器件

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摘要

本发明公开了一种制备周期减半的亚微米光栅的方法，涉及光学、微细加工、先进制造等领域，它解决了现有的光栅复制技术只能进行1:1光栅复制的问题，本发明利用一块亚微米母光栅制备出了周期减半的亚微米子光栅。本发明的方法为：首先制备出亚微米母光栅的PDMS软模板，同时在干净的基片上制备出所要使用的材料薄膜；然后将亚微米母光栅的PDMS软模板与准备好的材料薄膜紧密贴合，再将两者整体置于加热板上加热5分钟，加热温度要高于所用薄膜材料的玻璃化转变温度；最后将两者从加热板上取下并冷却至室温，分离基片和PDMS软模板，便在基片上制备出了周期减半的亚微米子光栅。本发明适用于亚微米光栅的制备领域。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种高压电缆

当前第 / 件

一种双排轨道的柔性防倾覆导向装置及其工作方法

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G02B5_00 G02B5_02 G02B5_04 G02B5_08 G02B5_12 G02B5_124 G02B5_126 G02B5_128 G02B5_18 G02B5_20 G02B5_28 G02B5_30 覆盖12个领域

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