发明专利 已授权

一种Ag/[SnS2/PMMA]/Cu低功耗阻变存储器及其制备方法

📄 申请号:CN202110556536.1 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2021-05-21
公开号
CN113328036A
公开日
2021-08-31
申请人
西安工业大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

数据存储, 消费电子, 物联网设备, 云计算数据中心, 人工智能硬件

摘要

本发明涉及二维材料与器件技术领域,具体涉及一种Ag/[SnS2/PMMA]/Cu低功耗阻变存储器及其制备方法。其公开了一种水热法合成SnS2六方结构纳米片,并将其与PMMA高分子材料复合制备SnS2/PMMA薄膜,将复合薄膜作为阻变功能层材料制备106A,g耐/受[S性nS达2/到PM了M10A4,]上/C述u阻两变项参存数储在器二的维方材法料。其阻开变关存比储约器为中已达到较优水平的基础上,Set/Reset电压只有‑0.1V/0.14V,远低于现有技术制备出的RRAM,有利于其未来在可穿戴设备方面的应用,当器件从高阻转变为低阻时对应的Set电流为2.6×10‑9A,Set功率仅为3.6×10‑10W,因此器件的功耗极低。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (H01L45_00)

H01L45_00 覆盖1个领域
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:28 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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