摘要
本发明涉及二维材料与器件技术领域,具体涉及一种Ag/[SnS2/PMMA]/Cu低功耗阻变存储器及其制备方法。其公开了一种水热法合成SnS2六方结构纳米片,并将其与PMMA高分子材料复合制备SnS2/PMMA薄膜,将复合薄膜作为阻变功能层材料制备106A,g耐/受[S性nS达2/到PM了M10A4,]上/C述u阻两变项参存数储在器二的维方材法料。其阻开变关存比储约器为中已达到较优水平的基础上,Set/Reset电压只有‑0.1V/0.14V,远低于现有技术制备出的RRAM,有利于其未来在可穿戴设备方面的应用,当器件从高阻转变为低阻时对应的Set电流为2.6×10‑9A,Set功率仅为3.6×10‑10W,因此器件的功耗极低。