发明专利 已授权

一种基于pH敏感的万古霉素修饰碳纳米点的制备方法

📄 申请号:CN202111635425.6 📄 发布日:2026/07/23

著录项目信息

申请日
2021-12-29
公开号
CN114306598B
公开日
2023-05-23
申请人
鲁东大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

靶向药物递送, 抗菌治疗, 生物成像, 肿瘤微环境响应释放, 纳米载药系统

摘要

本发明涉及一种基于pH敏感的万古霉素修饰碳纳米点的制备方法,借助酰氯介导的氨基羧基缩合反应,将万古霉素共价修饰到碳纳米点表面,形成万古霉素修饰的碳纳米点。本发明制备合成万古霉素修饰碳纳米点的合成步骤简单,反应产率高;获得的万古霉素修饰碳纳米点具有良好的靶向和pH敏感性,能够对细菌生物膜的酸性环境具有良好的聚集响应效应,从而提高近红外光区的吸收,优化光热转换性能,表现出显著增强的光热杀灭效果,能够用于革兰氏阳性耐药菌及其生物膜的光热治疗。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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A61K41_00 覆盖1个领域

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