发明专利已授权

一种柔性抛光装置

Name: 一种柔性抛光装置
Brand: 华侨大学
SKU: 2018114482811
Availability: InStock

📄 申请号：CN201811448281.1 📄 发布日：2026/06/04

著录项目信息

申请日

2018-11-29

公开号

CN109318136B

公开日

2024-02-27

申请人

华侨大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B24D13_14

IPC 分类号

B24D13_14 , B24D99_00 , B24D18_00 ,

技术画像

所属领域

柔性抛光抛光设备柔性制造表面处理柔性抛光

应用场景

金属加工, 精密制造, 表面光整加工

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摘要

本发明公开了一种柔性抛光装置，包括一底板和多个抛光块。本发明针对现有技术中三种抛光方式中磨料把持和工具使用寿命中所出现的问题，提供了一种高强度的柔性抛光装置，既具有好的耐磨性，又具有一定的柔性。在保证加工质量的同时，可大大提高抛光装置的使用寿命。本发明的柔性抛光装置中由于基体和结合剂具有弹性，在抛光过程中，磨粒有一定的退让性，能有效的减少抛光表面的划痕和损伤，具有更好的抛光效果。本发明的抛光块的形状为对称的L形在抛光时，能减少脱落的磨料和破碎的工件碎屑与工件摩擦时的接触长度，减少工件表面划痕。

常见问题

这项专利是否已经下证？

是的，该专利已下证，法律状态为“已下证”，公开号： CN109318136B

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权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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