摘要
本实用新型公开了一种半导体晶片酸洗装置,包括箱体,所述箱体的底部安装有储液箱,所述储液箱的内部安装有喷洗机构,所述箱体的内部安装有升降板,所述升降板的上表面连接有驱动箱,所述驱动箱的内部安装有刷洗机构,所述驱动箱的上表面与箱体之间连接有升降机构。本实用新型的一种半导体晶片酸洗装置,通过循环泵抽取储液箱内部的酸液,再由送水管输送至冲洗喷头,对半导体晶片的表面进行冲洗,在进行冲洗的同时,通过启动驱动电机,带动螺纹杆转动,进而带动活动杆旋转,调节升降板的高度,启动清洗电机,带动驱动轴上的锥齿轮一转动,进而带动转轴底端的毛刷转动,可以同时对多个半导体晶片的表面进行刷洗,提高清洁效率。