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发明专利
已授权
一种基于碳化硅纳米线的忆阻器及其制备方法
📄 申请号:CN202211174559.7
📄 发布日:2026/07/10
著录项目信息
申请日
2022-09-26
公开号
CN115623860A
公开日
2023-01-17
申请人
陕西科技大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
H10N70_20
IPC 分类号
H10N70_20
,
B82Y40_00
,
技术画像
所属领域
忆阻器技术
忆阻器技术
半导体器件
纳米材料
应用场景
神经形态计算, 非易失性存储, 逻辑运算电路, 类脑芯片
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摘要
本发明提供一种基于碳化硅纳米线的忆阻器及其制备方法,其自下至上依次包括底电极、碳化硅纳米线薄膜、PMMA薄膜和顶电极。制备方法包括:步骤1,在底电极的导电面上覆盖碳化硅纳米线薄膜;步骤2:在步骤1的碳化硅纳米线薄膜上涂覆PMMA溶液,将顶电极以导电面朝下压到PMMA溶液上,热压使PMMA凝固,获得忆阻器。通过简单快速的方法制备了两端结构的碳化硅纳米线忆阻器,可以很好的模拟大脑突触的基本功能,并且可以模拟更为复杂的树突神经的功能。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
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