发明专利已授权

一种钴基高饱和磁感应强度薄带材料及制备方法

📄 申请号：CN201410075591.9 📄 发布日：2025/12/23

著录项目信息

申请日

2014-03-04

公开号

CN103820679B

公开日

2015-10-21

申请人

南京信息工程大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C22C19_07

IPC 分类号

C22C19_07 , C22C1_03 , H01F1_147 , H01F41_00 ,

技术画像

所属领域

磁性材料磁性材料金属功能材料薄带制备工艺

应用场景

电力电子, 变压器, 电感器, 传感器, 电机

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摘要

本发明提供一种钴基高饱和磁感应强度薄带材料及制备方法，该合金薄带材料具有高的高饱和磁感应强度。该制备方法工艺简单，生产成本低，适于工业化生产。该钴基高饱和磁感应强度薄带材料中各成分的重量百分含量为：Sm 0.01％～0.05％, Ga 0.01％～0.05％,B 6％～9％,Te 0.5％～0.9％，S 0.05％～0.09％，Al 4％～6％，Fe 1％～4％,Si 1.4％～1.9％，其余为Co。该材料的组织特点为纳米晶。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

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当前第 / 件

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