发明专利已授权

少层MoS2修饰Ag-TiO2纳米复合薄膜的制备方法

📄 申请号：CN201810029005.5 📄 发布日：2026/08/10

著录项目信息

申请日

2018-01-12

公开号

CN108579768B

公开日

2020-08-04

申请人

合肥师范学院

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B01J27_051

IPC 分类号

B01J27_051 , B01J35_02 , C02F1_30 , C02F101_36 , C02F101_38 ,

技术画像

所属领域

其他分类其他

应用场景

光催化降解, 光解水制氢, 环境净化, 自清洁表面

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摘要

本发明公开了一种少层MoS2修饰Ag‑TiO2纳米复合薄膜的制备方法，方法的步骤中含有：(a)制备TiO2纳米薄膜；(b)制备Ag‑TiO2纳米复合薄膜；(c)制备少层MoS2修饰Ag‑TiO2纳米复合薄膜：对得到的Ag‑TiO2纳米复合薄膜进行紫外光照处理，处理结束后，然后至少进行二次少层MoS2修饰步骤，得到少层MoS2修饰Ag‑TiO2纳米复合薄膜；其中，每次少层MoS2修饰步骤中包括：在Ag‑TiO2纳米复合薄膜表面滴适量少层MoS2分散液，待少层MoS2分散液润湿Ag‑TiO2纳米复合薄膜表面后，将少层MoS2分散液均匀涂覆于Ag‑TiO2纳米复合薄膜表面，然后烘干处理。该方法制备过程简单，原材料成本相对较低，无毒，并且利用少层MoS2和Ag纳米颗粒的协同作用使得该薄膜具有较高的可见光催化降解效率，而且制备得到的薄膜易于回收和重复利用。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20200804

✅ 授权

20181026

?? 实质审查的生效：

20180928

📄 公开

一种制备多级结构Ag-ZnO薄膜的方法及其制备的多级结构Ag-ZnO薄膜

当前第 / 件

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