发明专利 已授权

一种基于空心氧化硅制备高硬度减反膜的方法

📄 申请号:CN201811540898.6 📄 发布日:2026/08/27

著录项目信息

申请日
2018-12-17
公开号
CN109502987B
公开日
2021-09-28
申请人
常州大学
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

所属领域

应用场景

光学镜头, 显示器玻璃, 太阳能电池盖板, 激光器件, 精密光学仪器

摘要

本发明属于光学薄膜材料领域,特别涉及一种基于空心氧化硅制备高硬度减反膜的方法。该方法以正硅酸四乙酯为原料,聚丙烯酸为模板剂,2‑异丙氧基乙醇和甲醇共同作为溶剂,氨水为催化剂,以模板法制备得到中空SiO2镀膜溶胶,采用提拉‑浸渍法在玻璃基板上镀制双面薄膜。经550℃煅烧后,得到在透光率波长范围为400‑800nm范围内平均透光率在98%以上,硬度达到4H以上减反射薄膜。

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这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN109502987B

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

20210928
✅ 授权
20190416
?? 实质审查的生效 :
20190322
📄 公开
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:28 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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