发明专利已授权

一种基于空心氧化硅制备高硬度减反膜的方法

📄 申请号：CN201811540898.6 📄 发布日：2026/04/16

著录项目信息

申请日

2018-12-17

公开号

CN109502987B

公开日

2021-09-28

申请人

常州大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

C03C17_25

IPC 分类号

C03C17_25 , C01B33_145 ,

技术画像

所属领域

光学薄膜光学薄膜纳米材料二氧化硅材料

应用场景

光学镜头, 显示器玻璃, 太阳能电池盖板, 激光器件, 精密光学仪器

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摘要

本发明属于光学薄膜材料领域，特别涉及一种基于空心氧化硅制备高硬度减反膜的方法。该方法以正硅酸四乙酯为原料，聚丙烯酸为模板剂，2‑异丙氧基乙醇和甲醇共同作为溶剂，氨水为催化剂，以模板法制备得到中空SiO2镀膜溶胶，采用提拉‑浸渍法在玻璃基板上镀制双面薄膜。经550℃煅烧后，得到在透光率波长范围为400‑800nm范围内平均透光率在98％以上，硬度达到4H以上减反射薄膜。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

20210928

✅ 授权

20190416

?? 实质审查的生效：

20190322

📄 公开

一种高硬度超耐磨的疏水性自清洁减反膜制备方法

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：59 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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