实用新型 已授权

一种半导体真空腔漏气监测装置

📄 申请号:CN202520271982.1 📄 发布日:2026/03/05

著录项目信息

申请日
2025-02-20
公开号
CN223783833U
公开日
2026-01-09
申请人
晶格(苏州)真空技术有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 真空设备维护, 气体泄漏检测, 工艺气体监测, 半导体设备安全监控

摘要

本实用新型公开了一种半导体真空腔漏气监测装置,涉及半导体技术领域,该真空腔漏气监测装置,包括真空腔体和工艺腔体,所述真空腔体位于工艺腔体的一侧,所述真空腔体的底部安装有真空泵;还包括:第一输送管,其安装在真空腔体靠近工艺腔体的一侧,所述工艺腔体靠近真空腔体的一侧设置有第二输送管,固定套板对两个连接法兰进行连接固定,同时在固定套板的内壁设置超声波模块,利用气体流动产生的超声波信号进行监测,能够准确的捕捉到漏气的信号,并且在固定套板的外侧设置指示灯,当某一处产生泄漏时,超声波模块会使对应位置的指示灯闪烁,使得工作人员在进行维修检查的时候能够快速的找到漏气点进行维修。

常见问题

这项专利是否已经下证?

是的,该专利已下证,法律状态为“已下证”,公开号: CN223783833U

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该专利的转让价格是多少?

当前标价为议价,可委托平台代购或预约谈判。

权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:158 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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