实用新型 已授权

一种PVD镀膜设备腔体真空度检测装置

📄 申请号:CN202520392009.5 📄 发布日:2026/07/07

著录项目信息

申请日
2025-03-07
公开号
CN223783795U
公开日
2026-01-09
申请人
晶格(苏州)真空技术有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

PVD镀膜, 真空镀膜工艺, 半导体制造, 光学镀膜, 工业真空环境监测

摘要

本实用新型公开了一种PVD镀膜设备腔体真空度检测装置,涉及真空度检测技术领域,该真空度检测装置,包括机体和检测箱,所述检测箱安装在机体的上端;还包括:进气管,其安装在检测箱的外部一侧,且进气管与检测箱内部连通,所述检测箱的另一侧外部设置有出气管,且出气管与检测箱内部连通,所述进气管远离检测箱的一端连接有过滤箱,在连接管和进气管之间设置过滤箱,连接管的另一端与镀膜设备的腔体连接,将腔体内部的气体通过连接管和进气管引入检测箱的内部,气体经过过滤箱时,通过滤芯将气体中含有的细微杂质进行隔离,使气体顺利的进入检测箱中进行检测,从而防止出现气体中细微杂质进入检测箱内部影响检测的结果。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

同领域国内专利 · IPC: (G01L21_00)

G01L21_00 G01L21_30 覆盖2个领域
议价
不含过户费

📋 交易方式: 委托待转让 📌 交易状态: 在售 👁️ 浏览次数:24 ❤️ 收藏人数:93 📋 项目申报: 未申报

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