发明专利已授权

基于微透镜阵列合成孔径的光场相机去遮挡系统和方法

📄 申请号：CN202010862218.3 📄 发布日：2026/08/18

著录项目信息

申请日

2020-08-25

公开号

CN111970424B

公开日

2022-07-19

申请人

武汉工程大学

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

H04N5_225

IPC 分类号

H04N5_225 , H04N5_232 , H04N5_217 , G02B3_00 ,

技术画像

所属领域

其他分类其他

应用场景

计算摄影, 安防监控, 智能驾驶, 三维重建, 增强现实

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摘要

本发明提供了基于微透镜阵列合成孔径的光场相机去遮挡系统和方法，采用微透镜阵列和合成孔径技术，提高了图像的角分辨率和光通量，通过目标场景内遮挡物进行数字对焦，对遮挡物的数据进行了高精度的识别和去除，实现了对目标场景中被遮挡物体的还原显现，从而提高了图像的信噪比和图像清晰度；在保证遮挡物识别高准确度的前提下，实现了提高目标图像的图像质量和系统的可靠性的功能。本发明提供了高对比度和高信噪比的去除遮挡物信息的三维场景信息光场图像，并可根据需要将该系统视频化进一步处理，通过三维测量进行数字化改造，在医疗检测信息化、展现形式场景化、娱乐体验代入感、虚拟化的等领域具有广泛应用前景。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种便携式光谱成像的材料鉴别方法及系统

当前第 / 件

基于光学分幅光场相机的高分辨率光场系统和成像方法

同领域国内专利 · IPC: (H04N5_225)

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议价

不含过户费

📋 交易方式： 委托待转让 📌 交易状态：在售 👁️ 浏览次数：2 ❤️ 收藏人数：93 📋 项目申报： 未申报

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