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一种用于半导体石墨清洗的清洗设备及其清洗方法

Name: 一种用于半导体石墨清洗的清洗设备及其清洗方法
Brand: 大同新成新材料股份有限公司
SKU: 2020106416389
Price: 18000.0 CNY
Availability: InStock

📄 申请号：CN202010641638.9 📄 发布日：2025/11/10

著录项目信息

申请日

2020-07-06

公开号

CN112077069B

公开日

2022-08-09

申请人

大同新成新材料股份有限公司

法律状态

已下证

专利类型

发明

主分类号

B08B3_10

IPC 分类号

B08B3_10 , B08B13_00 , F26B9_06 ,

技术画像

所属领域

半导体清洗设备半导体清洗设备清洗工艺石墨表面处理

应用场景

半导体制造, 半导体石墨器件清洗, 半导体设备维护

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摘要

本发明公开了一种用于半导体石墨清洗的清洗设备，包括底座，在底座顶面两侧的中部分别固定设有立柱和导向柱，在导向柱的柱体上部设有缓冲组件；在立柱内侧面的上部竖向活动设有滑板，在滑板的外侧中部横向固定设有横梁，在底座的顶面中部两侧分别固定设有矩形的清洗箱和支撑座，在清洗箱内设有清洗组件；在导向杆的杆体活动套设有滑块；在电推杆的伸缩端底部设有承载组件；本发明便于操作，通过升降组件和调节组件解决了现有半导体石墨在清洗时不便于工作人员进行取放工作的问题；通过清洗组件解决现有半导体石墨清洗装置清洗耗时较长的问题；通过收集箱便于增加对于清洗药液的回收利用，便于节约资源。

常见问题

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当前标价为 18000.0 元，不含过户费。支持议价，可委托平台代购或预约谈判。

权利要求书 (12项) 说明书附图

……

图1

图2

图3

法律状态时间线

一种工业胶带储备管理方法及系统

当前第 / 件

一种半导体石墨晶圆及其制备方法

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