发明专利 已授权

一种硅基纳米多孔硅单凸透镜的制备方法

📄 申请号:CN201811186718.9 📄 发布日:2025/10/17

著录项目信息

申请日
2018-10-12
公开号
CN109137059B
公开日
2020-10-20
申请人
湖南文理学院
法律状态
已下证
专利类型
发明
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

光学透镜, 光电子器件, 传感器, MEMS器件, 光电探测

摘要

本发明公开了一种硅基纳米多孔硅单凸透镜的制备方法,该方法是将常规双槽腐蚀时使用两个圆形平板薄铂片作为电极,且在两个平行电极之间放置硅片,硅片轴线、两个圆形平板薄铂片轴线三者重合,硅片离左、右两个电极的距离相等,硅片将腐蚀液分隔成两个独立的部分;采用恒流源对硅片进行电化学腐蚀形成圆柱形多孔硅薄膜;然后将硅基圆柱形的多孔硅膜浸入氢氧化钠溶液中,并以圆柱形的多孔硅薄膜的中心轴为自旋转轴旋转圆柱形多孔硅,导致在多孔硅圆柱表面形成由多孔硅材料构成的单面凸透镜。通过本发明的方法,能获得纳米多孔硅单面凸透镜,能广泛应用于微机电系统,为微机光电系统领域作出了重大的贡献。

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权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图2
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