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著 录 项 目:
专利/申请号: | CN202421739533.7 | 专利名称: | 一种用于蚀刻的化学反应池 |
申请日: | 2024-07-23 | 申请/专利权人 | |
专利类型: | 实用新型 | 地址: | |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C23F1/08分类检索 化学化工专利转让搜索 |
公开/公告日: | 转让价格: | 【平台担保交易】 | |
公开/公告号: | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
摘 要:本实用新型公开了一种用于蚀刻的化学反应池,涉及蚀刻相关技术领域,为解决现有技术中的蚀刻时需要蚀刻液与工件需要蚀刻位置接触,当蚀刻持续发生时,生成物可能会附着于蚀刻位置导致蚀刻位置的蚀刻不完全的问题。所述反应池主体后端的上端设置有竖向移动组件;所述竖向移动组件包括横向支撑板,所述横向支撑板下端安装有第二驱动电机,所述横向支撑板上端沿第二驱动电机的输出轴端安装有扇形齿轮,所述横向支撑板上端沿扇形齿轮外部设置有滑动框,所述滑动框内部前后端均设置有内固定齿部,两个所述内固定齿部交替与扇形齿轮啮合;所述工件蚀刻篮包括蚀刻篮主体,所述蚀刻篮主体内设置为蚀刻槽。
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
解除代理委托书(需盖公章)一式两份(如专利通过代理机构申请) | 解除代理委托书(需签字)一式两份(如专利通过代理机构申请) | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
专利请求书或手续合格通知书、授权通知书复印件 | 专利请求书或手续合格通知书、专利授权通知书复印件 | |
专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |
申请号 | 专利名称 | 发布日期 |
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