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实用新型
已授权
一种显微镜膜厚测量平台
📄 申请号:CN202321597139.X
📄 发布日:2025/10/15
著录项目信息
申请日
2023-06-21
公开号
CN220507958U
公开日
2024-02-20
申请人
上海仁晶测量技术有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
G01B11_06
IPC 分类号
G01B11_06
,
B08B1_00
,
技术画像
所属领域
显微镜
光学测量
精密仪器
薄膜检测
测量平台
显微镜
应用场景
半导体制造, 薄膜材料检测, 表面处理工艺, 质量控制, 科研实验
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摘要
本实用新型涉及显微镜技术领域,且公开了一种显微镜膜厚测量平台,包括工作板,所述工作板的正面固定安装有水平仪,所述工作板的上表面固定安装有清理箱。该一种显微镜膜厚测量平台,通过伺服电机、传动杆、螺纹输送杆和螺纹块的配合设置,使用时通过伺服电机外接电源带动传动杆进行转动,进而通过传动杆带动螺纹输送杆进行转动,继而通过螺纹输送杆带动螺纹块进行移动,从而起到了便于调节显微镜装置位置的作用,使得提高了该装置的工作效率,通过电动推杆、连接块和工作板的配合设置,使用时通过电动推杆伸缩带动连接块进行移动,进而通过连接块带动工作板进行移动,从而起到了便于调节工作板高度的作用,使得便于工作人员使用。
权利要求书 (12项)
说明书
附图
……
……
图1
图2
图3
法律状态时间线
一种混料装置
当前第 / 件
一种便于取料的光学膜厚测量仪
同领域国内专利 · IPC: (G01B11_06)
G01B11_00
G01B11_02
G01B11_03
G01B11_04
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