实用新型 已授权

一种显微镜膜厚测量平台

📄 申请号:CN202321597139.X 📄 发布日:2025/10/15

著录项目信息

申请日
2023-06-21
公开号
CN220507958U
公开日
2024-02-20
申请人
上海仁晶测量技术有限公司
法律状态
已下证
专利类型
实用新型
主分类号
IPC 分类号

技术画像

应用场景

半导体制造, 薄膜材料检测, 表面处理工艺, 质量控制, 科研实验

摘要

本实用新型涉及显微镜技术领域,且公开了一种显微镜膜厚测量平台,包括工作板,所述工作板的正面固定安装有水平仪,所述工作板的上表面固定安装有清理箱。该一种显微镜膜厚测量平台,通过伺服电机、传动杆、螺纹输送杆和螺纹块的配合设置,使用时通过伺服电机外接电源带动传动杆进行转动,进而通过传动杆带动螺纹输送杆进行转动,继而通过螺纹输送杆带动螺纹块进行移动,从而起到了便于调节显微镜装置位置的作用,使得提高了该装置的工作效率,通过电动推杆、连接块和工作板的配合设置,使用时通过电动推杆伸缩带动连接块进行移动,进而通过连接块带动工作板进行移动,从而起到了便于调节工作板高度的作用,使得便于工作人员使用。
权利要求书 (12项) 说明书 附图

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图1
图2
图3

法律状态时间线

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议价
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