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摘 要:本发明公开了一种锗量子‑铒掺杂二氧化锡多层复合半导体薄膜及其制备方法,本发明利用高真空多射频靶磁控溅射系统,在清洗后的衬底上,交替进行铒掺杂二氧化锡子层和非晶锗子层的溅射沉积,将沉积得到的铒掺杂二氧化锡/非晶锗多层复合半导体薄膜在氮气环境中进行热退火处理,使非晶锗子层内锗原子聚集晶化形成锗量子点,得到交替层叠结合在衬底上的锗量子‑铒掺杂二氧化锡多层复合半导体薄膜。本发明采用在铒掺杂二氧化锡半导体薄膜中插入锗量子点层,利用锗量子点的电子强关联特性敏化增强铒发光中心的光学活性,提高其发光效率;通过调节锗量子点的微观尺寸,可以改变其电子关联特性,实现对铒掺杂氧化物半导体材料中铒发光中心的光学调控。
著 录 项:
专利/申请号: | CN202011575069.9 | 专利名称: | 一种锗-铒掺杂二氧化锡多层复合薄膜及其制备方法 |
申请日: | 2020-12-28 | 申请/专利权人 | 淮阴师范学院 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 江苏省淮安市淮阴区长江西路111号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C09K11/02搜分类 半导体搜索 |
公开/公告日: | 2021-03-23 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN112538344A | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
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卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |