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摘 要:本发明实施例公开了一种半导体表面清洗剂,按重量份包括如下组份:氟碳溶剂10‑60份、氢氟醚10‑60份、有机醇1‑20份、表面活性剂1‑20份、螯合剂1‑15份和稳定剂1‑15份。本发明半导体表面清洗剂含氟代化合物,因而不易燃、挥发速率快,不含破坏环境的氟氯烃类化合物,对半导体表面污垢具有较好的溶解、清洗性能,适用于半导体表面残留物、助焊剂、松香、树脂、油污、指印、灰尘的清洗,清洗效果良好。也可用在电子、数码、太阳能工业产品的表面清洗上。
著 录 项:
专利/申请号: | CN201510593289.7 | 专利名称: | 一种半导体表面清洗剂及其制备方法 |
申请日: | 2015-09-17 | 申请/专利权人 | 惠州学院 |
专利类型: | 发明 | 地址: | 广东省惠州市惠城区演达大道46号 |
专利状态: | 已下证 查询审查信息 | 分类号: | C11D1/66搜分类 15天搜索 |
公开/公告日: | 2018-03-27 | 转让价格: | 面议 |
公开/公告号: | CN105199859B | 交易状态: | 等待洽谈 搜索相似专利 |
交易方 | 企业 | 个人 |
买家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(签字) |
专利转让委托书(需盖公章)一式两份 | 专利转让委托书(需签字)一式两份 | |
专利转让协议(需盖公章)一式两份 | 专利转让协议(需签字)一式两份 | |
卖家 | 营业执照副本复印件(需盖公章) | 身份证复印件(需申请人签字) |
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专利证原件(若授权下证) | 专利证原件(若授权下证) |
日期 | 法律信息 | 备注 |